Intel официально стартовала разработку процессов 10A и 7A, которые придут на смену нынешним 18A и будущему 14A в течение следующего десятилетия. Об этом заявил генеральный директор компании Lip-Bu Tan на конференции JP Morgan Global Technology, Media and Communications Conference.
Оба новых процесса будут использовать литографию EUV с высокой числовой апертурой (High-NA) от ASML — той же технологией, что и 14A. Tan подчеркнул важность долгосрочных дорожных карт для привлечения клиентов: многие компании выбирают поставщиков не только по текущим продуктам, но и по видению развития технологий на годы вперёд.
С 14A дела обстоят лучше. Версия 0.5 набора проектирования (PDK) уже доступна для тестирования, а критическая версия 0.9 запланирована на октябрь. Сначала её получат внутренние подразделения Intel, затем — внешние клиенты. По словам Tan, интерес к 14A проявили несколько заказчиков, но их имена пока не раскрываются.
Согласно плану, 14A выйдет в risk production в 2028 году и перейдёт на массовое производство в 2029-м. Это совпадает с началом выпуска TSMC на своём процессе A14, хотя прямого конкурентного противостояния здесь нет: Intel 14A лучше подходит для высокопроизводительных серверных процессоров благодаря технологии обратной подачи питания (backside power delivery).
Внедрение High-NA EUV потребует синхронизации множества компонентов экосистемы — новых фоторезистов, масок, метрологии и дизайн-правил. Intel активно сотрудничает с ASML и партнёрами, чтобы всё было готово к коммерческому запуску. Глава ASML Christophe Fouquet недавно упомянул, что первые тестовые чипы на High-NA EUV появятся в ближайшие месяцы.